活动原型 成都某半导体技术厂生产加工进程中直接制造高硅废气处理方法（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟废气处理方法（F⁻ 200-300mg/L）。俩种废气处理方法融合后常导致氟硅酸悬浊液，过去的化学乳浊液法不易于维持达到。该项目符合要求此次弄掉硅和氟（排污标：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 焦化废水物质及来自 关键含量 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 源头 ：晶圆刻蚀污生活污水 、CMP打磨污生活污水 、机器设备冲泡水 治理 艺流量 联动沉淀物中阶段中 ： 两极发生反应池 ： 独一级加药Ca(OH)₂生成二维码CaF₂和CaSiO₃放置； 第三级加药系统PAC（缔合氯化铝）突破斜管沉淀池。 固液分割时段. ： 反渗透膜机系统 ：采取0.02μm口径膜配件公款私存固体硅和微细积淀物。 广度脱氟周期 ： 可溶性钝化铝吸出塔 ：残余物氟阳离子吸出清掉。 终结成效 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远具有检测标准单位。 反渗透装置软件系统通量比较稳定在15LMH，药剂学清理周期公式延长了至60天。 淤泥经压滤后水分含量率＜65%，可按寻常固体废物正确处理。