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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造制作厂坐落于华中城市,核心制造8寸大半导体材料晶圆,日访问量废污水尾气排放规范规范量约800吨。致使制造时中利用非常多盐酸展开晶圆蚀刻,促使废污池中氟化物氧浓度高达mg200-300mg/L,远超国家的尾气排放规范规范规范(10mg/L下类)。 废气有效成分及源 废水处理工艺首要出自于这几个部门: 晶圆蚀刻工艺流程 :含高溶液浓度氟化物(HF)、盐酸及极少量天价属 电学机械装备增加光泽(CMP)化工废水 :含奈米级硅小粒、生产络合剂 主设备的洗涤工业废水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机的物 加工工序注意事项 适用"生物滤渣+混泥土滤渣+高度净化"两级加工处理平台: 1阶段处里 :加药氯化钙和氢被氧化钙,造成氟化钙悠长岁月中,氟化物取除率达85% 两级加工处理 :增长PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),出掉固体态空气固体废弃物 三级分销除理 :经由多材质净化器和生物炭活性炭吸附,有水出氟化物酸度相对稳定在8mg/L下类 核心设施设备涵盖:pH全自动调高系统的、斜管滤渣池、板框生活污水压滤机(生活污水脱水等)。 终结目的 工程项目电脑运行五年数据统计数据监测统计彰显: 氟化物月均酸度:7.2mg/L(高出发展中标准规范规定) COD清除率:92% 淤泥含水量率:≤65% 年的回收采用氟化钙副服务约150吨,改变影视综合采用采用

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