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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

投资项目题材 该半导体技术研制产业园座落豫东区域,总创业已经超过200亿美元,主要是产出12屏幕尺寸晶圆和品质可靠封装形式产品的。产业园日排出废出水量约5000吨,包含了多种类工艺技术废污水,操作等级大。业务追求废污水操作后可达到《智能电子制造业水感染物排出标准的》(GB 39731-2020)特点排出规定值,那部分工业废水处理率不少于60%。 废水处理工艺组分及主要来源 含氟化工废水:主要的来于晶圆蚀刻、除污环节,氟阳离子浓硫酸浓度万代高达200-500mg/L,pH值起伏较大大 有机物物焦化废水:光刻、定影、去胶等生产工序带来,COD有机物废气浓度300-800mg/L,有效异丙醇、二甲苯等有机物物高沸点溶剂 含铜废气:塑料电镀、化工机制磨光(CMP)工步出现,铜铁离子浓硫酸浓度50-150mg/L 酸性焦化废水:装置洗洁、有机废气物洗洁等重要环节存在,pH值在2-12直接下降 磨细废污水:CMP工艺会产生,富含納米级二腐蚀硅粒状 进行处理施工工艺程序 分为"划分征集+分质正确处理+深层次净化工程"的组和施工工艺: 含氟生产废水操作线 : 有级化学式凝固物:先加药系统氯化钙可以调节pH至6-7,后加入PAC和PAM斜板凝固池凝固物 化学活化防三氧化二铝吸:确定氟化合物浓度值调至5mg/L下面 飞灰经板框压滤后受托专业外理 有机的废液治疗线 : 微电解法抛光预净化处理:铁碳微电解法抛光分解大原子核有机肥料物 UASB厌氧发酵作用器:HRT=24h,COD洗去率>60% MBR膜生物工程生理反应釜:利用PVDF空心钎维膜,通量15LMH 含铜化工废水加工线 : 生物发展:加药系统NaOH调低pH至9-10,造成Cu(OH)2发展 正正离子更换:两极树脂胶更换确认铜正正离子<0.3mg/L 电解法法利用:大部分生产废水经电解法法利用彩石铜 综合管理治疗系统软件 : 改善池:平均污水水质排水量,设暴气鑫霖环保 沥青混凝土放置:污泥脱水软型水解酸化池剂快速清理胶体溶液有机物 嗅氧催化反应物氧化物:可可降解难可可降解可挥发物 超滤性机系统:脱盐率>98%,产水工业废水处理于产量线 污水进行处理软件系统 : 生活污水萃取池:固态物盐浓度从1%升降至3% 离心力缺水:假如PAM厨卫,泥饼水分含量率<75% 温度过低干化:大部分污泥干化干化至水分含量率30%一下 既定作用 活动建造执行后,几项质量指标相对稳定超过:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阳离子<0.3mg/L、pH 6-9。循环水水体超过GB/T 19923-2005制造业用热水标准规定,循环率65%,第二年厉行节约新鲜度水水量约140万吨。飞灰产生了量变少40%,危险的废料外理资金减少35%。体统自動化的情况高,百度在线检测统计资料与环境保护部门乃至每一位员工时时联机。

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