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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

该项目的背景 该光电器件研发公司企业主地属华中地域,最主要的产量整合电路板存储芯片,日废气含氟生活污水约800吨。是因为本地低能耗原则提高自己,和原有进行工作公用设施没法充分满足氟化物废气溶度如果低于5mg/L的新必须,公司企业主投资的11000万元新投入工程专业含氟生活污水进行工作控制系统。 化工废水因素及因素 生产废水大部分由来于基带芯片造成操作过程中的刻蚀生产工艺和的洗涤生产工艺,大部分造成的废弃物包涵: 氟铝离子浓度值:300-800mg/L pH值:2- 包含有极少量硅酸盐、磷酸 轻微血本属如铜、镍等 外理工艺设计注意事项 选择"特征提取+化学上的奠定+长度治理 "组合成制作工艺: 改善池:平均环境质量用水量,如何设置pH网上数据监测 特一级化学反应池:污泥脱水氢空气氧化钙,调节pH至7-8,产生氟化钙积淀 一级通过成绩奠定物中池:奠定物中溶合氟化钙厌氧颗粒污泥 二次的反应池:污泥脱水氯化钙和配位碱式氯化铝,进一点的还原稳定度氟铁离子 二级考试奠定池:分次奠定分離 砂滤设计:快速清理浮动物 特异性炭降解:取除巧妙物和少量巨资属 飞灰工作系统化:板框压滤脱水烘干,飞灰含水量率减少为60%如下 结果英文作用 操作系统操作安全后,出水出水水体质量: 氟亚铁离子浓硫酸浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 高价属含水量均少于查出限 非常满意《电子器材重工业水污染源物进行排放标准细则》(GB39731-2020)规范要求,第二年减掉氟化物进行排放标准约180吨。

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